阳型PS版晒版的一般工艺流程是：装版一曝光一显影一清
  洗一修版一（烤版、提墨）一擦胶。其中烘烤和提墨可以根据试印
  刷生产需要而选用。
    装版是将阳型胶片的药膜面与PS版感光胶膜套合在固定
  位置上。
    曝光是借助于波长为350 - 450nm的紫光对印版曝光，在曝光
  逋程中，光通过阳底片的透光部分（空白部分）使感光剂发生分
解，放出氮气，感光剂分子结构发生重排，产生茚酮化合物。通常
曝光时间控制在2 -5min，因版材不同，曝光H寸间长度也不同。
        由于茚酮化合物不溶于水，但易溶于稀碱溶液，显影是利用稀
碱溶液对曝光后PS版进行处理，发生酸碱中和反应，生成能溶于
水的盐。显影ut间一般控制在20s - 2min，这与娃影液浓度有关。
    清洗是利用清水对显影后的PS版进行表面处理，清除印版表
面的漫影液残液，水洗后，露出版基七亲水的氧化铝膜，作为印版
的非文部分。文部分|天I有阳片上的像挡光，感光剂不会
分解，也就不能和稀碱溶液反应而溶于水。留仵PS版上未感光的
重氮化合物感光剂具有良好的亲油性，成为印版的文部分基础。