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半导体工艺中的超纯试剂特点
2019-09-19
信息编号:1058556
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超净高纯试剂是超大规模集成电路制作过程中的专用化学品。主要用于芯片的清洗和腐
蚀。它的纯度和洁净度对集成电路的成品率和电性能及可靠性有着十分重要的影响。当微粒
杂质、无机离子、有机物质、微生物以及气体杂质数量超过一定限度时,就会使集成电路产
品发生表面的擦伤、图形断线、短路、针孔、剥离等现象,导致电性能异常。超净高纯试剂
具有品种多、用量大、技术要求高、储存有效期短和强腐蚀性等特点。
普通离纯试剂
普通高纯试剂是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等,常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等,用来配制标准溶液和作为标准物质,该类试剂常要求含量在4N~6N之间。...
09-19
液晶高纯试剂
液晶是一类电子化学材料,是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人们称它为第四态。液晶种类繁多,用途最广,前景最大的要属TN(低档)、...
09-19
磨抛光高纯试剂
磨抛光高纯试剂是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求20×10-4%~5×10-5%。...
09-19
光刻胶高纯试剂
光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不...
09-19
超净高纯化学试剂
超净高纯试剂国外通常称为湿化学品(WetChemicals)。在半导体制造过程中,使用这种试剂的工序主要是洗净(包括干燥)、光刻、显影、去膜和掺杂等。这种试剂包括超净高纯酸及碱类、超净高纯有机溶剂和超净高纯蚀刻剂。...
09-19
新型超净高纯试剂前景展望与发展
世界化学试剂的生产以有机试剂、生化试剂、电子工业用试剂和光导纤维等用试剂为主要发展方向。生化试剂着重发展遗传工程和临床化学用试剂如微生物试剂等。有机试剂主要有元素有机化合物、偶氮化...
09-19
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