主要是除去材料中的杂质。提纯方法可分化学法和物理法。化学提纯是把材料制成某种
中间化合物以便系统地除去某些杂质，最后再把材料 （元素）从某种容易分解的化合物中分
离出来。物理提纯常用的是区域熔炼技术，即将半导体材料铸成锭条，从锭条的一端开始形
成一定长度的熔化区域。利用杂质在凝固过程中的分凝现象，当此熔区从一端至另一端重复
移动多次后，杂质富集于锭条的两端。去掉两端的材料，剩下的即为具有较高纯度 的 材 料
（见区熔法晶体生长）。此外还有真空蒸发、真空蒸馏等物理方法。锗、硅是能够得到的纯度
最高的半导体材料，其主要杂质原子所占比例可以小于百亿分之一。