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    常用的超净高纯化学试剂
    2019-08-31 信息编号:1043451 收藏
序号  产 品 名 称  用途  序号  产 品 名 称  用途
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7  环己烷 
环戊酮 
乙酸乙酯 
乙酸丁酯 
乳酸乙酯 
丙二醇 
丙二醇单甲醚乙酸酯  光刻胶溶剂
光刻胶溶剂
光刻胶溶剂
光刻胶溶剂
光刻胶溶剂
光刻胶溶剂
光刻胶溶剂 8 
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12 
13  环己酮 
环戊酮 
N甲基吡咯烷酮 
甲乙酮 
甲基异丁基酮 
四甲基氢氧化铵  显影剂
显影剂
光刻胶溶剂
显影剂
显影剂
显影剂
  • 超净高纯化学试剂在光刻工艺中的应用
    光刻技术是集成电路工艺中的关键技术。在光刻过程中分7个步骤,即涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶。在以上7个步骤中除前烘、曝光和坚膜外其余四个步骤中均会用到超净高纯化学试剂。光刻胶...
    08-31
  • 超净高纯化学试剂
    在刻蚀工艺中的应用在集成电路工艺的诸多加工步骤中,为了有效去除前一加工步骤造成的污染,做到表面清洁,会经常对晶片进行清洗,为下一步加工步骤创造条件。清洗工艺主要除去各种对电子线路的实现有阻...
    08-31
  • 有关沾污类型、来源和常用清洗试剂
    表29。表29沾污类型、来源和常用清洗试剂沾污类型可能来源清洗用化学品颗粒设备、车间空气、工艺气体和化学试剂、去离子水氨水、双氧水、H2O2、烧碱、H2O金属设备、高纯试剂、离子注入、灰化和反应离子...
    08-31
  • 集成电路生产过程中的主要污染物及其危害
    集成电路生产中可能接触到的主要污染物有微粒杂质、无机离子、有机物质、微生物以及气体杂质等。从广义上说,不适宜的温度、湿度、照度、超过限度的静电、电磁噪声、空气噪声以及微振动等,也都是特...
    08-31
  • 高纯水技术
    超净高纯试剂的制备离不开超纯水,它既直接用于超净高纯试剂的生产,又用于包装容器的超净清洗,其质量的好坏直接决定着超净高纯试剂产品的质量。同时,超纯水又是最纯、最廉价的清洗剂,就当今的水处理技...
    08-31
  • 非金属杂质分析测试技术
    非金属杂质的分析测试主要是指阴离子的测试,最为常用的方法就是离子色谱法。离子色谱法是根据离子交换的原理,由于被测阴离子水合离子半径和所带电荷不同,在阴离子交换树脂上造成分配系数不同,使阴离...
    08-31