对多晶硅质量影响较大的污垢有哪些？
对多晶硅质量影响较大的污垢有以下几种。
（１）油脂。在多晶硅生产过程中，油分子对多晶硅的危害十分严重。实践证明，整个工艺
系统１０－６数量级的油含量就可能造成多晶硅反应速率减慢，产量降低，甚至硅反应停止。因
此，多晶硅设备的脱脂工艺尤其重要。
（２）水分。水中含有大量的氯离子，氯离子对多晶硅的反应十分敏感。设备及系统干燥工
艺很关键。
（３）氯离子残留。水和其他溶液在设备表面残留的氯离子对多晶硅影响很大。因此，在清
洗后对设备进行纯水冲洗工艺十分重要。
（４）氧化物、灰尘等其他杂质。其他污垢的存在，对多晶硅的生产影响也很大。因此，在
设备清洗过程中，采用酸洗工艺对其他污垢进行清洗十分必要。
多晶硅生产所要清洗的设备主要有以下几种。
（１）还原炉车间里的还原炉、鼓泡器、节能器、高位料罐、回收料罐、蒸发器、冷凝分离
器、氢气缓冲罐等与三氯氢硅或四氯化硅有关的设备及管道都需要清洗。
（２）三氯氢硅或四氯化硅合成车间的合成炉、沉降器、中间料罐等设备及管道都需要
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（３）三氯氢硅或四氯化硅精馏车间的精馏塔、料罐等设备及管道都需要清洗。
（４）氢气站净化之后的气罐、管道都需要清洗。
（５）干法回收的系统与三氯氢硅或四氯化硅有关的设备及管道都需要清洗。
（６）三氯氢硅加氢所用的氢化炉及管道都需要清洗。