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    新型超净高纯试剂在半导体技术中的用途
    2019-09-19 信息编号：1058560 收藏
１２３（２（３）（电子级）高纯三氯氧磷的主要用途见表２３。
表２３ 高纯三氯氧磷的主要用途
类 别  用 途
第一类  是超大规模集成电路（ＩＣ）、分离器件五价元素扩散源
第二类  太阳能电池板五价元素扩散源
第三类  光纤制作过程中信号传输性能改进剂
第四类  医药中间体
  • 超净高纯试剂提纯技术要求与用途
    （１）电子级三氯氧磷（ＰＯＣｌ３）经多年的工作积累，近期研制成功电子级三氯氧磷的提纯工艺。经太阳能、半导体、光纤和医药中间体企业的试用均可达到要求。提纯生产工艺简单，易于操作，无危险。因为提纯生产工艺设计先...
    09-19
  •  超净高纯试剂在半导体技术中主要的用途
    随着半导体技术的迅速发展，对超净高纯试剂的要求越来越高，在集成电路和超大规模集成电路生产过程中，超净高纯试剂主要用于芯片及硅圆片表面的清洗，其质量对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十...
    09-19
  • 半导体工艺中的超纯试剂特点
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    09-19
  • 普通离纯试剂
    普通高纯试剂是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等，常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等，用来配制标准溶液和作为标准物质，该类试剂常要求含量在４Ｎ～６Ｎ之间。...
    09-19
  • 液晶高纯试剂
    液晶是一类电子化学材料，是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性，有时人们称它为第四态。液晶种类繁多，用途最广，前景最大的要属ＴＮ（低档）、...
    09-19
  • 磨抛光高纯试剂
    磨抛光高纯试剂是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉（三氧化二铝）和磨液（水和油剂），能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小（纳米），纯度高，金属杂质一般要求２０×１０－４％～５×１０－５％。...
    09-19
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