（１）去蜡液 去蜡液又名橘精，为纯天然制品。适用于各种半导体材料、水晶材料、磁
性材料等表面加工过程中黏结蜡的清洗，同时对晶片表面颗粒物和各种有机物、指纹等污染
物有超强的净洗能力，洗后晶片表面无蜡残留，而且对半导体材料和光学材料本身无腐蚀，
其特点如下。
① 高效 清洗快速，清洗过程只需要５～１５ｍｉｎ即可，清洗能力强。
② 使用方便 清洗工艺简单，清洗操作方便，保持清洗剂沸腾或配合超声设备使用。
③ 安全环保 本清洗剂为水基配方，不含有毒、有害成分，对人体无伤害。
（２）显影液 ＤＰＤ２００：氢氧化四甲铵 （化学名），主要用于 ＬＥＤ、ＩＬＣＤ 制造用光 刻
胶的显影剂，适用于东进及其他公司的Ｉｌｉｎｅ 及 Ｇｌｉｎｅ 光刻胶。可 防 止 和 减 少 钠 离 子 的 污
染，改善应用性能，其湿润性良好，且表面张力大，晶片表面内尺寸变化小，显影液温度对
于曝光量的依赖性低，显影液气泡少，显影干净、亲和力好等优点，有利于提高分辨力。
（３）增黏剂 无色透明易流动液体，与空气接触会迅速分解为三甲基硅醇和六甲基二硅
醚，半导体行业中用于增加光刻胶与基板之间的黏附性。
（４）蚀刻液 ＩＴＯ 蚀刻液在光电产业用于氧化铟锡蚀刻所需的蚀刻液，适用于蚀刻氧
化铟锡层，其蚀刻效果优良，速度快且成等向性蚀刻，可轻易达成所需蚀刻要求。
使用方法：操作前确认酸排已经开放；将ＩＴＯ 蚀刻原液以 ＣＣＳＳ 系统或手动给液于操
作槽中；加热至操作温度并待药液温度稳定；进行蚀刻时需使蚀刻液进行药液循环或持续搅
动蚀刻液；有规律地移动被蚀刻基板，使药液与待蚀刻ＩＴＯ 基板接触均匀。