５３９ ５４０５４１ ５４２５４３５４４５４５ ５４６１８４第六节 ２二、
５４７ 干膜抗蚀剂 （ＤＦＲ）
干膜抗蚀剂有三层，表层 （聚乙烯）、光敏层和基础层 （聚酯）。用时先将表层揭去、用
热压法层压在基础基板上，曝光后将基础层去除，然后显影、制备图形。国内干膜销售量约
２００×１０４ｍ２／年。
（１）主要原料及其规格
甲基丙烯酸 工业品
甲基丙烯酸烷基酯 工业品
聚乙烯薄膜 工业品
聚酯薄膜 工业品
（２）消耗定额
甲基丙烯酸 ００４ｋｇ／ｍ２
甲基丙烯酸烷基酯 ００６ｋｇ／ｍ２
聚乙烯薄膜 ００４ｋｇ／ｍ２
聚酯薄膜 ００４ｋｇ／ｍ２
（３）制 法 光 敏 层 中 的 基 础 聚 合 物 通 常 用 丙 烯 酸 共 聚 物， 如 甲 基 丙 烯 酸 与 甲 基 丙 烯
酸 烷 基 酯 的 共 聚 物。 光 聚 合 单 体 是 光 交 联 的 成 分， 大 部 分 光 聚 合 单 体 是 含 丙 烯 酰 基 或
甲 基 丙 烯 酰 基 的 丙 烯 酸 酯 或 甲 基 丙 烯 酸 酯 类 化 合 物， 在 光 敏 层 中 占 ２５％ ～４０％。 因 其
第 五 章 印 刷 线 路 板 材 料 １８５
基 本 上 是 液 态 化 合 物， 在 光 敏 层 中 可 溶 解 基 础 聚 合 物 并 调 整 整 个 光 敏 层 的 黏 度， 从 而
提 高 层 压 时 与 基 板 的 附 着 性， 此 外 还 可 提 高 曝 光 时 活 性 基 团 的 扩 散 性， 使 光 聚 合 速 度
即 灵 敏 度 提 高。
光聚合引发剂可吸收光使光聚合单体聚合、放出活性基团，添加过多时稳定性差、过少
则灵敏度低，不适合自动化大工业生产。
染料可使基板上的抗蚀剂易辨认，一般选择能吸收可见光并与铜呈反差的青、绿色。
黏附剂一般用于干膜抗蚀剂中可提高黏附强度，常用的有苯并三唑、２巯基二氢噻唑、
２苯基苯并咪唑、α氨基羧酸等与铜能形成配位化合物的物质。
制作时可在感光树脂的丙酮溶液中加入光敏引发剂、热阻聚剂、染料及多种助剂，配成
胶液，在一定温度下涂布于聚酯薄膜上，加热干燥得到抗蚀膜，再在上面覆涂一层 聚 乙 烯
膜，收卷成筒，即为产品。
（４）流程说明 （参见图５２５） 甲基丙烯酸与甲基丙烯酸烷基酯在聚合釜内生成光聚合
单体，光聚合单体在配料釜内以丙酮配成溶液，然后加入光敏引发剂、热阻聚剂、染料及其
他助剂配成胶液。胶液在涂布机上涂敷在涤纶薄膜上，用热风干燥后得到抗蚀膜。抗蚀膜在
复辊机上复辊一层聚乙烯保护膜，收卷成筒，即得产品。
图５２５ 干膜抗蚀剂生产工艺流程图
（５）产品规格
抗蚀剂厚度公差／μｍ ±３
宽度／ｍｍ ４８５±５
气泡针孔（０１～０２ｍｍ） ＜１５个／ｍ２ 膜
凝胶粒子（０１～０２ｍｍ） ＜１０个／ｍ２ 膜
不平整度（三层）／（μｍ／ｍ） ６
光谱吸收区／ｎｍ ３１０～４４０
分辨率／ｍｍ ＜０１
感光度（２５℃）／ｓ
１０００Ｗ 汞灯、灯距４５ｃｍ  ＜５０
显影性（３５℃±２℃，１％～２％ Ｎａ２ＣＯ３）／ｓ  ＜１２０
耐电镀性  表面不发毛、渗漏、脱落
耐腐蚀性  表面不发毛、渗漏、脱落
去膜性／ｓ
（３５～７０℃，３％～５％ＮａＯＨ）  ＜９０

（６）性质 产 品 分 辨 率 高 （０１～０１５ｍｍ）， 图 形 边 缘 线 条 陡 直， 用 稀 碱 溶 液 显 影，
使用安全，三废处理方 便， 干 膜 具 有 光 致 变 色 性 能， 曝 光 部 分 颜 色 变 深， 显 示 出 图 形，
检验方便，低毒。
（７）用途 主 要 用 于 单 层、双 层 及 多 层 印 制 电 路 板 的 生 产、 制 作 耐 腐 蚀 及 耐 电 镀 的
图形。
１８６ 新型电子化学品生产技术与配方