。用于晶体生成、成膜工艺中 Ｈ２、Ｎ２、Ｏ２、Ａｒ等
高纯气体和用于成膜、掺杂工艺中，硅烷 （ＳｉＨ４）、二氯二氢硅 （Ｈ２ＳｉＣｌ２）、磷烷 （ＰＨ３）、
砷烷 （ＡｓＨ３）和乙硼烷 （Ｂ２Ｈ６）等特种 气 体。随 着 集 成 度 的 提 高 对 电 子 气 也 提 出 更 高 要
求，见表１４。