超净高纯化学试剂在电子工业中的应用主要在芯片集成电路制造方面。一是用于芯片基
片在涂胶前的湿法清洗；二是用于芯片在光刻过程中的蚀刻及最终去胶。目前最为常有的有
１０多种，主要分为四大 类：一 为 酸 类， 包 括 硫 酸、 氢 氟 酸、 硝 酸、 盐 酸、 磷 酸、 醋 酸 等；
二是碱类，主要为氢氧化铵；三为溶剂类，它又分醇类、酮类、酯类、烷类等；四是其他品
种，如过氧化氢、氟化铵水溶液等。
二、 国外超净高纯试剂现状及发展
超净高纯试剂是超大规模集成电路 （ＩＣ）制作过程中的关键性基础化工材料之 一，主
要用于芯片的清洗和腐蚀及硅圆片 （晶 圆） 的 清 洗，它 的 纯 度 和 洁 净 度 对 集 成 电 路 的 成 品
率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求
高、贮存有效期短和强腐蚀性等特点。
到目前为止，在国际上以德国 ＥＭｅｒｃｋ公司的产量及所占市场份额为最大，其次为美
国 Ａｓｈｌａｎｄ公司、Ｏｌｉｎ公司及日本的关东株式会社，另外还有美国的 ＭａｌｌｉｎｃｋｒａｄｔＢａｋｅｒ公
司、 英 国 的 ＢＤＨ 公 司、 三 菱 瓦 斯 化 学、 伊 斯 曼 化 学 公 司、ＡｌｌｉｅｄＳｉｇｎａｌ 公 司、
Ｃｈｅｍｔｅｃｈ公司、ＰＶＳ化学品公司、日本化学工业公司及德山公司等。近年来，新加坡、中
国台湾地区也相继建立了５０００～１００００ｔ级的超净高纯试剂生产基地。
由于世界超净高纯试剂市场的不断扩大，从事超净高纯试剂研究与生产的厂家及机构也
在增多，生产规模不断扩大，但各生产厂家所生产的超净高纯试剂的标准各不相同。为了能
够规范世界超净高纯试剂的标准，国际半导体设备与材料组织 （ＳＥＭＩ） 于１９７５ 年 成 立 了
ＳＥＭＩ化学试剂标准委员会，专门制定超净高纯试剂的国际标准。目前 ＳＥＭＩ将超净高纯试
剂按应用 范 围 分 为 ４ 个 等 级：①ＳＥＭＩＣ１ 标 准 （适 用 于 ＞１２μｍＩＣ 工 艺 技 术 的 制 作）；
②ＳＥＭＩＣ７标准 （适用于０８～１２μｍＩＣ工艺技术的制作）；③ＳＥＭＩＣ８标准 （适用于０２～
０６μｍＩＣ工艺技术的制作）；④ＳＥＭＩＣ１２标准 （适用于００９～０２μｍＩＣ工艺技术的制作）。
进入２１世纪，国际ＳＥＭＩ标准化组织又根据超净高纯试剂在世界范围内的实际发展情
况对原有的分类体系进行了归并，按品种进行分类，每个品种归并为一个指导性的标准，其
中包括多个用于不同工艺技术的等级。
随着集成电路的发展，设计规范尺寸已进入亚微米、深亚微米时代，对与之配套使用的
超净高纯试剂提出了更高的要求，颗粒和杂质含量要减少１～３个数量级，并对储运也提出
了更高的要求。为了适应新的发展，在进入２０世纪９０年代初各主要生产厂家积极推进化学
品的经营服务 （ＣＭＳ），即化学品供应者在ＩＣ 现场，承担调查ＩＣ 生产工艺与化学品的相关
因素，协调解决有关工艺化学品在应用过程中的技术问题，使ＩＣ 生产者与化学品供应者形
成了紧密的合作伙伴。由于推行 ＣＭＳ，降低了企业的运行费用，缩短了研究开发周期，增
强了质量保证，改进了生产安全，减少了危险品的贮存量，保证化学品在使用点上 的 高 质
量。另外根据用户要求，工艺化学品生产者可按ＳＥＭＩ标准提供混配好的蚀刻液如缓冲氢氟
酸蚀刻液、混合酸蚀刻液和磷酸蚀刻液。
