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    环化橡胶双叠氮型光刻胶
    2019-09-19 信息编号:1058725 收藏
性能及用途
(1)物化性能 淡黄至琥珀色黏性透明液体。易溶于苯、甲苯等,在醇中能沉淀出絮
状固体。受光、受 热 会 发 生 聚 合 反 应。闪 点31℃,易 燃。对 二 氧 化 硅、金 属 有 强 黏 附 性,
对酸、碱均有抗蚀能力。
(2)主要用途 本胶种黏附能力强,抗酸、碱能力好,稳定重复性好,适用于中、大规
模集成电路及分立器件的光刻工艺。
产品质量标准
企业标准 (环化异戊二烯橡胶光刻胶)
牌号
指标名称 BN
302 BN303①
60  60H  45  30  30F  30SR  100  50
固体含量/% 
针孔密度/(个/cm2) ≤  1.0±0.5 
0.3 
60±5 
0.2 
1 
1.05~
1.15
2.5~3.0 
65 
10  11±0.5 
0.02 
60±1.5 
0.2 
1 
1.05~
11.5
2.5 
65 
6  14.5±1
0.02 
60±2.0 
0.2 
1 
1.03~
1.5
2.5 
80 
6  10.5±0.5
0.02 
45±2 
0.2 
1 
0.9±
0.05
2.0 
80 
6  12±1.0 
0.02 
30±1.5 
0.2 
1 
0.85~
0.90
2.0~1.75
75 
6  12±1.0 
0.02 
30±1.5 
0.2 
1 
0.85~
0.90
2.0~1.75 
75 
6  12±1.0 
0.02 
30±1.5 
0.2 
1 
0.85~
0.90
1.75 
75 
6  12.5±15
0.03
150±15
0.25~
0.6

2.5~
2.7
7~8
80
8 0.03 
100±10 
0.2~
0.45
2 
2.1~
2.3
7 
80 
8 

水分/% ≤ 黏度/mPa·s 过滤膜/μm 金 属 杂 质 (K、Na、Ca、
Pb、Mg、Fe、Cr等)/10-6 ≤ 膜厚(3000r/min)/μm 分辨率/μm 留膜率/% > 
100 新型电子化学品生产技术与配方
续表
牌号
指标名称 BN308①
45  250  350  450  550
固体含量/% 
牌号
指标名称 13.0±1.0 
0.03 
45±1.5 
0.2 
≤1 
0.9~1.10 
1.75 
>80 
≤6  20±2 
0.03 
260±25 
0.2 
≤2 
2.5~2.8 
7~8 
>80 
—  23±3 
0.03 
350±40 
0.6 
其Fe他<<43 
4.5±0.5 
8~10 
90 
— 
FHGJ② 25±4 
0.03 
450±45 
0.6 
≤4 
5.8±0.5 
16~20 
90 
—  26±6
0.03
550±60
0.6
≤4
>6.5

95

10  30  45  60  100  150  30H1  30H2
固体含量/% 
牌号
指标名称 7.0~7.4 
0.03 
9.5~10.5 
0.869~
0.879
0.2 
1 
0.6 
2~3 
90  10.2~10.8
0.03 
29~31 
0.871~
0.881
0.2 
1 
1.2 
5 
90  11.6~12.4
0.03 
44~46 
0.873~
0.883
0.2 
1 
1.4 
5 
90 
FGHX④  12.5~13.5
0.03 
59~61 
0.875~
0.885
0.2 
1 
1.8 
5 
90  15.0~16.0
0.03 
97~103 
0.878~
0.888
0.2 
1 
2.2 
5 
90  16.7~17.7
0.03 
145~155 
0.880~
0.890
0.45 
1 
3 
5 
90  10.2~10.8 
0.03 
29~31 
0.871~
0.881
0.2 
1 
1.2 
5 
90 
上试二号③ 10.2~10.8
0.03
29~31
0.871~
0.881
0.2

1.2

90
250  350  450  Ⅰ  Ⅱ
固体含量/% 
水分/% 
黏度/mPa·s 
密度/(g/cm3) 
过滤膜/μm 
金 属 杂 质 (K、Na、Ca、
Pb、Mg、Fe、Cr等)/10-6 
膜厚(3000r/min)/μm 
分辨率/μm 
留膜率/% 
牌号
指标名称 19.5~21.5 20.5~23.5 22.0~25.0 
<0.05 <0.05 <0.05
235~265 330~370 425~475 
0.885~0.895 0.893~0.903 0.900~0.910 
0.45 0.45 0.45
<1 <1 <1
4 4.5 5
5~10 5~10 5~10
>90 >90 >90
上试四号③
Ⅰ Ⅱ Ⅲ
上试
五号③  11~13 13~15
65~70 70~75
0.86~0.89 0.86~0.89
HBTG④
固体含量/% 
水分/% 
黏度/mPa·s 
密度/(g/cm3) 
过滤膜/μm 
金 属 杂 质 (K、Na、Ca、
Pb、Mg、Fe、Cr等)/10-6 
分辨率/μm 
留膜率/%  12~16 
60~70 
0.85~0.90  14~18 
70~80 
0.85~0.90  16~22 
>80 
0.88~0.99  内控 
60 
0.88~0.99  视黏度调整⑤
0.03
15 30 45 60 100
120 300 450
0.877±0.005
0.20
<1
3~4
>85

水分/% ≤ 黏度/mPa·s 过滤膜/μm 金 属 杂 质 (K、Na、Ca、
Pb、Mg、Fe、Cr等)/10-6 膜厚(3000r/min)/μm 分辨率/μm 留膜率/% 针孔密度/(个/cm2) 水分/% < 黏度/mPa·s 密度/(g/cm3) 过滤膜/μm 金 属 杂 质 (K、Na、Ca、
Pb、Mg、Fe、Cr等)/10-6 < 膜厚(3000r/min)/μm 分辨率/μm 留膜率/% > ① 为北京化学试剂研究所产品。
② 为苏州电子材料厂产品。
③ 为上海化学试剂厂产品。
④ 黄岩有机化工厂产品。
⑤ 所指黏度为60mPa·s±1mPa·s。
第四章 电子工业用光刻胶 101
生产工艺路线 有两种方法。
(1)将聚异戊二烯橡胶或天然橡胶处理后在二甲苯中溶解,加热到一定温度,于对甲基
苯磺酸催化剂 (或在80℃以下温度,二元催化剂)作用下环化,加终止剂停止反应,经处
理得到环化橡胶,再与交联剂、溶剂、添加剂配制成产品。
(2)从异戊二烯单体开始,经过聚合反应待聚合物的分子量、黏度符合要求,加入终止
剂,接着加入环化反应催化剂,进行环化反应后经过后处理、浓缩、过滤、配胶制得产品。
其环化工艺同上述第一种方法一样 (催化剂有两种选择)。
  • 国内光刻胶产品
    国内生产(或试制)光刻胶的情况见表44。表44国内光刻胶产品产品名称牌号单位邻重氮萘酯(正胶)环化异戊二烯橡胶环化丁二烯橡胶聚乙烯醇肉桂酸酯亚肉桂基丙二酸乙二醇酯聚乙基氧乙基肉桂酸酯电子束光刻...
    09-19
  • 微细加工技术的技术方向
    (1)光刻胶的技术方向现阶段光刻胶主要有两个技术方向。①从工艺的角度去考虑。普通的光刻胶在成像过程中,由于存在一定的衍射、反射和散射,降低了光刻胶图形的对比度,从而降低了图形的分辨率。随着曝...
    09-19
  • 微细加工技术的关键及性能指标
    (1)应用性能指标集成电路的进一步发展需要相应的曝光技术的支持,光刻胶技术是曝光技术的重要组成部分。高性能的曝光工具需要与之相配套的高性能的光刻胶才能真正获得高分辨率的加工能力。光刻胶在集...
    09-19
  • 刻胶的反应机理
    光刻胶在接受一定波长的光或者射线时,会相应地发生一种光化学反应或者激励作用。光化学反应中的光吸收是在化学键合中起作用的处于原子最外层的电子由基态转入激励态时引起的。对于有机物,基态与激...
    09-19
  • 作为微电子技术核心的集成电路
    概述制造技术是电子工业的基础,其发展更新的速度是其他产业无法企及的。在集成电路制作过程中,光刻是其关键工艺。光刻胶涂覆在半导体、导体和绝缘体上,经曝光显影后留下的部分对底层起保护作用,然后...
    09-19
  • 子工业用光刻胶
    95线,而正性胶可轻易获得孤立的洞和槽。现实生产中,胶的复杂化学性能和简单的图形转换形成了鲜明的对照。在胶中加入添加物如可塑剂,胶的黏附性能就能得到改善,而提高速度,非离子化牺牲技术可进一步改善...
    09-19