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    新型超净高纯试剂在半导体技术中的用途
    2019-08-31 信息编号：1043431 收藏
１２ ３（３）（电子级）高纯三氯氧磷的主要用途见表２３。
表２３ 高纯三氯氧磷的主要用途
类 别  用 途
第一类  是超大规模集成电路（ＩＣ）、分离器件五价元素扩散源
第二类  太阳能电池板五价元素扩散源
第三类  光纤制作过程中信号传输性能改进剂
第四类  医药中间体
  • 超净高纯试剂提纯技术要求与用途
    （１）（２）电子级高纯三氯氧磷（电子级）高纯三氯氧磷是集成电路（ＩＣ）生产和多晶硅太阳能电池精细加工中ｐｎ结制作的掺杂剂，是五价元素磷（Ｐ）扩散源。磷源有多种，气体源主要是磷烷（ＰＨ３），固体源主要是五氧化二磷（Ｐ２Ｏ５），液体源主要是三氯氧磷...
    08-31
  • 电子级三氯氧磷 （ＰＯＣｌ３）
    经多年的工作积累，近期研制成功电子级三氯氧磷的提纯工艺。经太阳能、半导体、光纤和医药中间体企业的试用均可达到要求。提纯生产工艺简单，易于操作，无危险。因为提纯生产工艺设计先进，产品质量好。...
    08-31
  • 超净高纯试剂在半导体技术中主要的用途
    随着半导体技术的迅速发展，对超净高纯试剂的要求越来越高，在集成电路和超大规模集成电路生产过程中，超净高纯试剂主要用于芯片及硅圆片表面的清洗，其质量对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十...
    08-31
  • 半导体工艺中的超纯试剂特点
    超净高纯试剂是超大规模集成电路制作过程中的专用化学品。主要用于芯片的清洗和腐蚀。它的纯度和洁净度对集成电路的成品率和电性能及可靠性有着十分重要的影响。当微粒杂质、无机离子、有机物质...
    08-31
  • 普通离纯试剂
    普通高纯试剂是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等，常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等，用来配制标准溶液和作为标准物质，该类试剂常要求含量在４Ｎ～６Ｎ之间。...
    08-31
  • 根据这个原则可将高纯物质分为
    ：杂质总含量不大于１５×１０－２％，其纯度为３５个９（９９９５）简写为３５Ｎ杂质总含量不大于１０×１０－２％，其纯度为４个９（９９９９）简写为４０Ｎ杂质总含量不大于１０×１０－３％，其纯度为５个９（９９９９９）简写为５Ｎ对高纯试剂或高纯元素纯度或杂质含量的检验，一般常用原子吸收光谱...
    08-31
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