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    根据这个原则可将高纯物质分为
    2019-08-31 信息编号:1043425 收藏

杂质总含量不大于15×10-2%,其纯度为35个9 (9995)简写为35N
杂质总含量不大于10×10-2%,其纯度为4个9 (9999)简写为40N
杂质总含量不大于10×10-3%,其纯度为5个9 (99999)简写为5N
对高纯试剂或高纯元素纯度或杂质含量的检验,一般常用原子吸收光 谱、原 子 发 射 光
谱、色谱、质谱比色化学分析等方法进行测定。其阴离子规格原则上参照试剂优级标准,没
有优级标准的产品由生产单位自行制定。
  • 晶高纯试剂
    液晶是一类电子化学材料,是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人们称它为第四态。液晶种类繁多,用途最广,前景最大的要属TN(低档)、...
    08-31
  • 磨抛光高纯试剂
    磨抛光高纯试剂是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求20×10-4%~5×10-5%。...
    08-31
  • 光刻胶高纯试剂
    光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不...
    08-31
  • 超净高纯试剂的研制和生产制备技术
    第二节一、超净高纯化学试剂超净高纯试剂国外通常称为湿化学品(WetChemicals)。在半导体制造过程中,使用这种试剂的工序主要是洗净(包括干燥)、光刻、显影、去膜和掺杂等。这种试剂包括超净高纯酸及碱类、超净高纯...
    08-31
  • 新型超净高纯试剂前景展望与发展
    世界化学试剂的生产以有机试剂、生化试剂、电子工业用试剂和光导纤维等用试剂为主要发展方向。生化试剂着重发展遗传工程和临床化学用试剂如微生物试剂等。有机试剂主要有元素有机化合物、偶氮化...
    08-31
  • LC行业中化学试剂的用途
    (1)浓盐酸、硝酸用于腐蚀无光刻胶覆盖的ITO膜。(2)氢氧化钠用于ITO玻璃的清洗,去除玻璃表面的杂质;用于光刻时的显影剂,溶除未感光部分的光刻胶;用于光刻后的去胶,将经过腐蚀的玻璃表面的光刻胶去除干净。第二章超...
    08-31