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    超净高纯试剂在半导体技术中主要的用途
    2019-08-31 信息编号:1043428 收藏
随着半导体技术的迅速发展,对超净高纯试剂的要求越来越高,在集成电路和超大规模
集成电路生产过程中,超净高纯试剂主要用于芯片及硅圆片表面的清洗,其质量对集成电路
的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。超净高纯试剂的品种很多,常用的超净
高纯试剂主要有:酸类如硫 酸、氢 氟 酸、硝 酸、盐 酸、磷 酸、醋 酸、混 酸;碱 类 如 氢 氧 化
铵;溶剂类如甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、丁酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、环
己烷;其他类如过氧化氢、氟化铵水溶液等。这些试剂有的有腐蚀作用,有的有毒而产生污
染,因此,多年来国内外许多单位都在研究开发无毒或低毒的中性试剂。
  • 半导体工艺中的超纯试剂特点
    超净高纯试剂是超大规模集成电路制作过程中的专用化学品。主要用于芯片的清洗和腐蚀。它的纯度和洁净度对集成电路的成品率和电性能及可靠性有着十分重要的影响。当微粒杂质、无机离子、有机物质...
    08-31
  • 普通离纯试剂
    普通高纯试剂是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等,常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等,用来配制标准溶液和作为标准物质,该类试剂常要求含量在4N~6N之间。...
    08-31
  • 根据这个原则可将高纯物质分为
    :杂质总含量不大于15×10-2%,其纯度为35个9(9995)简写为35N杂质总含量不大于10×10-2%,其纯度为4个9(9999)简写为40N杂质总含量不大于10×10-3%,其纯度为5个9(99999)简写为5N对高纯试剂或高纯元素纯度或杂质含量的检验,一般常用原子吸收光谱...
    08-31
  • 晶高纯试剂
    液晶是一类电子化学材料,是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人们称它为第四态。液晶种类繁多,用途最广,前景最大的要属TN(低档)、...
    08-31
  • 磨抛光高纯试剂
    磨抛光高纯试剂是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求20×10-4%~5×10-5%。...
    08-31
  • 光刻胶高纯试剂
    光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不...
    08-31