改良西门子法是通过化学反应来生产多晶硅的，在还原炉里的主要化学反应有如下几种：
ＳｉＨＣｌ３＋Ｈ２ →Ｓｉ＋３ＨＣｌ （６２）
ＳｉＨＣｌ３ →Ｓｉ＋ ＨＣｌ＋２Ｃｌ （６３）
４ＳｉＨＣｌ３ →Ｓｉ＋３ＳｉＣｌ４ ＋２Ｈ２ （６４）
既然是化学反应，那就会有参加反应的原料，也会有反应后的生成物。从化学反应方程式
中可以看到，右侧的是原料，也就是三氯氢硅和氢气，而左边就是反应后的生成物。它们有硅
（Ｓｉ）、氯化氢 （ＨＣｌ）、氯气 （Ｃｌ２）、四氯化硅 （ＳｉＣｌ４）和氢气 （Ｈ２）。左边硅是生产出来的
产品多晶硅，而氯化氢、氯气、四氯化硅和氢气就会从还原炉排出，成为尾气。
上述只是尾气中的一部分，尾气中还有一部分没能参加还原反应的三氯氢硅和氢气。三氯
氢硅的氢还原反应也是在还原炉中的发热体表面上进行的，其反应的面积很小，只有少数进入
还原炉中的三氯氢硅和氢能有机会与之接触。也就是说，采用这种生产法，进入还原炉的还原
料只有少数 （一般认为１０％～２０％）参加反应，生成多晶硅，而绝大多数是被当成尾气放
出来。
四氯化硅氢还原法也是通过化学反应来生产多晶硅的，在还原炉里也有如下几种化学
反应：
ＳｉＣｌ４ ＋２Ｈ２ →Ｓｉ＋４ＨＣｌ （６５）
ＳｉＣｌ４ ＋ Ｈ２ →ＳｉＣｌ２ ＋２ＨＣｌ （６６）
２ＳｉＣｌ２ →Ｓｉ＋ＳｉＣｌ４ （６７）
ＳｉＣｌ２ ＋ Ｈ２ →Ｓｉ＋２ＨＣｌ （６８）
ＳｉＣｌ４ ＋ Ｈ２ →ＳｉＨＣｌ３ ＋ ＨＣｌ （６９）
ＳｉＣｌ２ ＋ ＨＣｌ→ＳｉＨＣｌ３ （６１０）
四氯化硅氢还原法的氢还原反应与改良西门子法一样，也有在还原炉中的发热体表面上进
行的，其反应的面积也很小，也很多原料没有机会参加反应就成为尾气被放出来。
总之，改良西门子法和四氯化硅氢还原法尾气都是由反应生成物和没有机会参加反应的原
料组成。
