级别
目前，试剂所已经投 入 规 模 生 产 的 主 要 有 ＭＯＳ 级 和 ＢＶⅢ 级 两 个 级 别 的 超 净 高 纯 试
剂，其中 ＭＯＳ级超净高纯试剂主要用于中小规模集成电路及分立器件的制作，ＢＶⅢ级超
净高纯试剂主要用于０８～１２μｍＩＣ 工艺技术的制作。其主要指标如下：
（１）
① 金属杂质含量≤５００×１０－９。
② 非金属杂质含量≤１×１０－６。
③ ≥５μｍ 颗粒控制为≤２７个／ｍＬ。
（２）ＢＶⅢ级超净高纯试剂
３０ 新型电子化学品生产技术与配方
① 金属杂质含量≤１０×１０－９。
② 非金属杂质含量≤５００×１０－６。
③ ≥０５μｍ 颗粒控制为≤２５个／ｍＬ。
④ 相当于国际ＳｅｍｉＣ７标准的水平。
下述品种所列产品质量标准：ＭＯＳ级标准为北京 化 工 厂 企 业 标 准，ＭＯＳ级 产 品 可 供
５μｍ 加工工艺 选 用；ＢＶⅠ 级 标 准 为 北 京 化 学 试 剂 研 究 所 企 业 标 准，ＢＶⅠ 级 产 品 可 供
３μｍ 加工工艺选用；ＳｅｍｉＣ级标准为半导体设备 和 材 料 国 际 组 织 标 准；ＥＬＵＭ 级 标 准 为
日本关东化学 （株） 企 业 标 准；ＳｅｍｉＣ 级 和 ＥＬＵＭ 级 产 品 可 供 ０８～１２μｍ 加 工 工 艺
选用。