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    集成电路对高纯试剂控制颗粒的要求
    2019-09-19 信息编号:1058564 收藏
项 目  1997年  1999年  2001年  2003年  2006年  2009年  2012年
线型
/μm DRAM  025  018  015  013  010  007  005
微处理器  02  014  012  010  007  005  0035
样品  256M  1G  1G  4G  16G  64G  256G
产品  64M  256M  1G  1G  4G  16G  64G
晶体管/(百万/cm2)  37  62  10  18  39  84  180
晶片尺寸/mm  200  300  300  300  300  450  450

通过表24可以看出,随着集成电路集成度的不断提高,芯片面积的不断增大,对颗粒
控制的要求也越来越苛刻。缺陷对成品率的影响也越来越显著。大的芯片中包含的元件更
多,少数的缺陷就会导致整块芯片失效。
  • 一种低温蒸发、冷却生产超净高纯试剂的方法
    一种低温蒸发、冷却生产超净高纯试剂的方法包括如下步骤:将原料与惰性载气分别送入加热蒸发器,加热到原料的沸点以下2~30℃,在低温下原料被蒸发,与惰性载气发生对流传质,原料蒸气与惰性载气一起进入冷凝器...
    09-19
  • 新型超净高纯试剂在半导体技术中的用途
    123(2(3)(电子级)高纯三氯氧磷的主要用途见表23。表23高纯三氯氧磷的主要用途类别用途第一类是超大规模集成电路(IC)、分离器件五价元素扩散源第二类太阳能电池板五价元素扩散源第三类光纤制作过程中信号传...
    09-19
  • 超净高纯试剂提纯技术要求与用途
    (1)电子级三氯氧磷(POCl3)经多年的工作积累,近期研制成功电子级三氯氧磷的提纯工艺。经太阳能、半导体、光纤和医药中间体企业的试用均可达到要求。提纯生产工艺简单,易于操作,无危险。因为提纯生产工艺设计先...
    09-19
  •  超净高纯试剂在半导体技术中主要的用途
    随着半导体技术的迅速发展,对超净高纯试剂的要求越来越高,在集成电路和超大规模集成电路生产过程中,超净高纯试剂主要用于芯片及硅圆片表面的清洗,其质量对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十...
    09-19
  • 半导体工艺中的超纯试剂特点
    超净高纯试剂是超大规模集成电路制作过程中的专用化学品。主要用于芯片的清洗和腐蚀。它的纯度和洁净度对集成电路的成品率和电性能及可靠性有着十分重要的影响。当微粒杂质、无机离子、有机物质...
    09-19
  • 普通离纯试剂
    普通高纯试剂是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等,常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等,用来配制标准溶液和作为标准物质,该类试剂常要求含量在4N~6N之间。...
    09-19