商品名 聚酯型负性光刻胶 ＦＺＪ１１、ＦＺＪ２１，无显影气相光刻胶 ＷＱＧ０１、ＷＱＧ０２，
金属腐蚀胶 ＭＫ１、ＭＫ２。
结构式
［Ｏ Ｃ
Ｏ
ＣＣ
師師
帩
Ｈ ＣＨ ＣＨ
Ｃ Ｏ
ＯＣＨ２ＣＨ２］ｎ
性能及用途
（１）物化性能 此胶为感光性高分子聚合物，对紫外光敏感。同时还具有热敏性，因此
需要在室温 （３０℃）以下贮存。在干燥避光条件下，有效期为半年。
（２）主要用途 此光刻胶适用于分立器件和集成电路，也推广应用于工具钢、餐具、医
疗器械等方面。
产品质量标准
企业标准 （无锡化工研究设计院）
指 标 名 称 ＦＺＪ１１ ＦＺＪ２１ ＷＱＧ０１，ＷＱＧ０２ ＭＫ１，ＭＫ２
１２±１
０９６４０～０９７４０
１４６７０～１４７００
０２
８～１８
２
１ １２±１
０９６５～０９７２０
１４６７０～１４７４０
０２
８～２５
２
１ ７±０５
１４６７０～１４７００
０２
８～１６
２
１ １５～２０
１４６７０～１４７００
０２
２０以上
２
１ 金属杂质（Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｌ）／１０－６ ＜
固含量／％ 相对密度（ｄ２５ ４ ） 折射率（２５℃） 水分／％ ≤ 运动黏度／（×１０－６ｍ２／ｓ） 钠、锌含量／１０－６ ＜ 生产工艺路线 将肉桂醛、丙二酸二乙酯、醋酐按一定摩尔比合成制得亚肉桂基丙二酸
第四章 电子工业用光刻胶 １０３
二乙酯，再与乙二醇进行酯交换得到单体，然后进行缩聚制备出高聚物半成品。配胶时将高
聚物、增感剂、溶剂等配制成光刻胶。
４６ 重氮萘醌正性光刻胶
性能及用途
（１）物化性能 为正性光刻胶。琥珀色透明液体。可与醇、酮、酯互溶，遇水会析出固
体。闪点４１℃，易燃，受光或受热作用发生分解反应。当紫外光照射时光照部分发生分解。
遇水生成茚酸。稀碱水显影后得图形分辨率好。与掩模板图像相同。对二氧化硅及金属有较
好的黏附性，耐酸性好。
（２）主要用途 适合在大规模集成电路、分立器件、掩模板光刻工艺上使用，在印刷行
业 ＰＳ版广泛使用。除了用于接触曝光外，还用于投影和分步重复曝光。
组成 高聚物 （间甲酚醛树脂）、感光剂 （２１５或２１４感光剂）、溶剂 （乙二醇单乙醚醋
酸酯）、添加剂 （根据需要），是重氮萘醌磺酸酯类化合物。
产品质量标准
企业标准
指 标 名 称 ＢＰ２１２（Ｔ）① ＢＰ２１２（Ｄ）① ＢＰ２１３（Ⅰ）① ＢＰ２１２（Ⅱ）① 高黏度胶①
固体含量／％
水分／％
黏度／ｍＰａ·ｓ
过滤膜／μｍ
金 属 杂 质 （Ｋ、Ｎａ、Ｃａ、Ｐｂ、Ａｌ、
Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｕ）／１０－６
膜厚（３０００ｒ／ｍｉｎ）／μｍ
分辨率／μｍ
留膜率／％
指 标 名 称 １８±１０
≤０５
６０±０５
０２
≤１
０６０±００２
０７
≥９４
ＢＰ２０７① ３００±２０
≤０５
３０±１５
０２
≤１
１０～１３
０７～１２
≥９４
ＢＰ２０８① ２６０±１０
≤０５
１８±１０
０２
≤１
０９～１０
０７～１２
≥９０
ＺＧ ３００±１５
≤０５
３０±２０
０２
≤１
１２～１４
０７～１２
≥９０
３０１② ３４±２０
≤０５
６０±５０
０２
≤１
１８～２５
１５～２０
＞９５
ＺＧＨ③
固体含量／％
水分／％
黏度／ｍＰａ·ｓ
密度（２０℃）／（ｇ／ｃｍ３）
过滤膜／μｍ
金 属 杂 质 （Ｋ、Ｎａ、Ｃａ、Ｐｂ、Ａｌ、
Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｕ）／１０－６
折射率（固体）
膜厚（３０００ｒ／ｍｉｎ）／μｍ
分辨率／μｍ
留膜率／％ ２９±２０
≤０５
３０±２０
０４５～０６
＜１
１０５±０１５
１３～１６
＞９２ １７５±１５
≤０５
６０±１０
０４５～０６
＜１
０６±０１
０８～１０
＞９０ ２８１～２９１
＜０３
２０５～２１５
１０１～１０２
０２
＜０５
１６４
１４０
３
＞９０ ３０±０５
＜０００５
３０～６０
１０４０±００１
０１
＜０１
１～１５
① 为北京化学试剂研究所产品。
② 为苏州电子材料厂产品。
③ 为黄岩有机化工厂产品。
生产工艺路线 将萘酚磺酸经亚硝化、还原、重氮化、精制得感光活性基团，与间甲酚
醛树脂 （或 三 羟 基 二 苯 甲 酮） 酯 化 成 感 光 剂，再 与 高 聚 物 间 甲 酚 醛 树 脂、 溶 剂 等 配 制 成
产品。
