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    m 的工艺要求,辐胶和电子束胶可提供少量产品
    2019-08-31 信息编号:1043395 收藏

c 特种电子气体。目前少量由国内生产,30多个品种主要由美国、法国和日本等国家
的公司提供。
d 环氧模塑料。目前国内已有3000t/a的生产能力,可满足08μm 工艺要求,现在正
在研制035μm 工艺要求的封装材料。
② 印刷电路板 (PCB) 配 套 用 的 电 子 化 学 品 印 制 电 路 板 配 套 用 的 化 学 品 主 要 也 分
4类。
a 基板用化学品,包 括 基 体 树 脂 和 增 强 材 料,基 体 树 脂 主 要 是 酚 醛 树 脂、环 氧 树 脂、
聚酯树脂和聚酰亚胺树脂等。用作基体的酚醛树脂目前国内年产量为5000t左右,用量最大
的是环氧树脂,国内生产厂家较多,其中年生产能力超过1×104t的有3家,目前总的年生
产能力在5×104t左右,只能部分满足基板生产的要求,大部分仍需进口。
b 线路成像用光致抗蚀剂和网印油墨。光致抗蚀剂是制造印制电路板电路图形的关键
材料,目前主要用液态光致抗蚀剂 (liquidphotoresist)和干膜抗蚀剂 (dryfilmresist)两
大类,其中干膜抗蚀剂的用量最大,在各种抗蚀剂中占90%以上。现在国内有7~8家企业
生产干膜抗蚀剂,年产干膜抗蚀剂100万吨左右。远远不能满足国内 PCB 制造的需求,大
部分靠进口。1999年,我 国 干 膜 抗 蚀 剂 的 使 用 量 约1500 万 平 方 米。液 态 抗 蚀 剂 有4 种 类
型,即自然干燥型、加热固化型、紫外光固化型和感光成像型,前3种类型的抗蚀剂是用丝
网印刷的方法制作电路图形,主要适用于线宽在200btm 以上的单面印制电路板的生产,后
一种是用光致成像的光刻工艺制作电路图形,适用于制作精细、高密度双面和多层印制电路
板。现在国内有7~8个厂家生产各种类型的抗蚀剂,年产量在1500t左右,还不能满足国
内 PCB制造的需求,尤其是液态感光成像光致抗蚀剂,1999年的用量接近200t,主要靠进
口。PCB用网印油墨,主要产品有阻焊剂、字符油墨和导电油墨等。国内也有7~8个厂家
8 新型电子化学品生产技术与配方
生产这类油墨,目前国产网印油墨只能满足中、低档需求,高档产品用液态感光成像阻焊剂
等,大部分靠进口。1999 年,国内使用的各种阻焊剂1500t左右,其中,感 光 成 像 阻 焊 剂
需求增长最快。
  • 我国历来十分重视电子化学品的研制
    、开发和生产,现在的产品已能部分满足我国信息产业的生产需求。现将两类比较重要的电子化学品的现状简要介绍如下。①集成电路用的电子化学品关键的有4类。a超净高纯试剂。BVⅢ级试剂已达到国外SEMI...
    08-31
  • 国内电子化学品上市公司现状概况
    随着电子消费品需求恢复增长以及全球大力发展新能源以及电子产业及上游向中国转移;液晶、电解液等精细化工中电子化学品的发展最为看好。电子化学品2010年一季度业绩表现抢眼,同比增速20%~200%不等,大大高于其他...
    08-31
  • 碱金属和重金属杂质含量要求控制
    10-9数量级。高纯气体采用自动空分装置和终端纯化来制备。特种气体采用化学反应发生气体后,经高性能吸附剂、气体吸附分离或低温技术、气体膜分离技术来制备。为了保证使用气体的洁净度,在现场再经气体...
    08-31
  • 电子气可分为高纯气体和特种气体
    。用于晶体生成、成膜工艺中H2、N2、O2、Ar等高纯气体和用于成膜、掺杂工艺中,硅烷(SiH4)、二氯二氢硅(H2SiCl2)、磷烷(PH3)、砷烷(AsH3)和乙硼烷(B2H6)等特种气体。随着集成度的提高对电子气也提出更高要求,见表14。...
    08-31
  • 工艺的发展对试剂要求的变化
    集成度(DRAM)64K256K1M4M16M64M危险颗粒尺寸/μm0.50.20.20.10.060.06控制颗粒数(>0.5μm)/(个/mL)500100401510.2金属杂质100×10-910×10-94×10-91×10-90.1×10-90.05×10-9(2)光刻胶光刻胶用做抗蚀涂层,是完成光刻工序的关键材料。从表13可以看出微细加工的发展,对其光刻胶提出更高要求。表13微细加工的发展集成度...
    08-31
  • 超净高纯试剂
    由于超净高纯试剂在清洗、光刻工序中,直接与硅片相接触,随着集成度的不断提高,对试剂中可溶性杂质和固体颗粒的控制也越来越严。从表12可以看出工艺的发展对试剂要求的变化。...
    08-31