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    主要用途 光刻工艺中作溶剂
    2019-08-31 信息编号:1043457 收藏

产品质量标准
指 标 名 称 BVⅠ级
企业标准
2μm 以上
颗粒 ELUM 级
企业标准
05μm 以上
颗粒 指 标 名 称 BVⅠ级
企业标准
2μm 以上
颗粒 ELUM 级
企业标准
05μm 以上
颗粒
颗粒数/(个/100mL) 
含量/% 
色度(黑曾单位) 
水分/% 
游离酸(以CH3COOH 计)/×10-6 
游离碱(以 NH3 计)/×10-6 
蒸发残渣/×10-6 
硫酸试验 
杂质最高含量/×10-9
锂(Li) 
钠(Na) 
钾(K) 
铜(Cu) 
银(Ag) 
金(Au) 
镁(Mg) 
钙(Ca)  ≤300 
>99.5 
— 
<0.01 
<10 
<5 
— 
合格 
1 
10 
10 
1 
2 
— 
5 
10  ≤2000
>99.8
≤10
<0.02
<20

<5
合格

10





3 锶(Sr) 
钡(Ba) 
锌(Zn) 
镉(Cd) 
铝(Al) 
镓(Ga) 
硅(Si) 
锗(Ge) 
锡(Sn) 
铅(Pb) 
砷(As) 
铬(Cr) 
锰(Mn) 
铁(Fe) 
钴(Co) 
镍(Ni)  1 
5 
3 
1 
20 
— 
— 
— 
— 
3 
— 
5 
1 
10 
1 
1  1
10


10
10
10
10
20

50


10



生产工艺路线 依工业丁酮所含杂质情况,可采取不同化学处理方法,然后在高效精馏
塔内进行精馏。所得产品如颗粒达不到质量要求,需用02μm 微孔滤膜过滤。
23 甲醇 (集成电路用)
英文名 methanol (forICuse)
性能及用途
(1)物化性能 沸点645℃;密度 (25℃)079g/mL;折射率 (n20 D )13292。无色透
明液体,有毒,易燃。能与水、乙醇、醚相混溶,易被氧化成甲醛,其蒸气与空气混合物爆
炸极限为55%~335%。
  • 超净高纯试剂的生产工艺路线与质量标准
    21磷酸(集成电路用)英文名phosphoricacid(forICuse)性能及用途(1)物化性能无色透明黏稠状液体,在25℃时密度为170g/mL。易溶于水和乙醇,受冷时可以从水溶液中生成柱状结晶,但熔点较低,稍加热即可熔化。当加热至150℃时,开始失去化合之水,至215℃可...
    08-31
  • MOS级超净高纯试剂
    级别目前,试剂所已经投入规模生产的主要有MOS级和BVⅢ级两个级别的超净高纯试剂,其中MOS级超净高纯试剂主要用于中小规模集成电路及分立器件的制作,BVⅢ级超净高纯试剂主要用于08~12μmIC工艺技术的制作。其主...
    08-31
  • 超净高纯试剂的规格与品种
    1主要品种产品主要包括硫酸、氢氟酸、过氧化氢(双氧水)、氢氧化铵(氨水)、硝酸、盐酸、氟化铵、磷酸、异丙醇、无水乙醇、甲醇、丙酮、丁酮、环己烷、乙酸丁酯、乙酸乙酯、甲苯、二甲苯等。...
    08-31
  • 常用的扩散源和扩散工艺
    见表213。表213常用的扩散源和扩散工艺序号类别源物质扩散工艺1固态源三氧化二硼(B2O3)、五氧化二磷(P2O5)热扩散工艺2液态源三溴化硼(BBr3)、三氯化硼(BCl3)、三氯氧磷(POCl3)、硼乳胶扩散源、磷酸三甲(乙)酯、硼酸三甲(乙)酯等热扩散工...
    08-31
  • 超净高纯化学试剂在掺杂技术中的应用
    掺杂的目的是将一定数量的某种杂质掺入到硅晶体中或其他半导体晶体中,并且希望掺入的杂质数量、分布形式和深度等都满足要求,以改变电学性质,实现器件制备的功能指标。中、小规模集成电路制造中广泛...
    08-31
  • 常用的超净高纯化学试剂
    序号产品名称用途序号产品名称用途1234567环己烷环戊酮乙酸乙酯乙酸丁酯乳酸乙酯丙二醇丙二醇单甲醚乙酸酯光刻胶溶剂光刻胶溶剂光刻胶溶剂光刻胶溶剂光刻胶溶剂光刻胶溶剂光刻胶溶剂8910111213环己酮环戊酮N甲基...
    08-31