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    电子化学品的特点、 用途及分类
    2019-09-19 信息编号:1058509 收藏
电子化工 材 料 及 产 品 支 撑 着 现 代 通 信、 计 算 机、 信 息 网 络 技 术、 微 机 械 智 能 系 统、
工业自动化和家电等现代高技术产 业。 电 子 信 息 材 料 产 业 的 发 展 规 模 和 技 术 水 平, 已 经
成为衡量一个国家经济发展、科技进 步 和 国 防 实 力 的 重 要 标 志, 在 国 民 经 济 中 具 有 重 要
战略地位,是科技创新和国际竞争最 为 激 烈 的 材 料 领 域。 电 子 化 工 材 料 主 要 包 括 半 导 体
材料、光电子材 料、 传 感 器 材 料、 磁 性 材 料、 电 子 功 能 陶 瓷、 光 传 导 纤 维、 绿 色 电 池 材
料等。
电子化学品是电子工业中的关键性基础化工材料,电子工业的发展要求电子化学品与之
同步发展,不断地更新换代,以适应其在技术方面不断推陈出新的需要。特别是在集成电路
(IC)的微细加 工 过 程 中 所 需 的 关 键 性 电 子 化 学 品 主 要 包 括:光 刻 胶 (又 称 光 致 抗 蚀 剂)、
超净高纯试剂 (又称工艺化学品)、特种电子气体和环氧塑封料,其中超净高纯试剂、光刻
胶、特种电子气体用于前工序,环氧塑封料用于后工序。这些微电子化工材料约占IC 材料
总成本的20%,其中超净高纯试剂约占5%,光刻胶约占4%,电子气体 (纯气、特气)约
占5%~6%,环氧塑封料约占5%。
在IC 微细加工过程中光刻工艺是IC 生产的关键工艺,光刻胶涂覆在半导体、导体和绝
缘体上,经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用,然后采用超净高纯试剂进行蚀刻并
最终获得永久性的图形。在图形转移中一般情况下需要进行十多次光刻才能完成,而进入深
亚微米后需要经20~30次光刻方能完成。蚀刻的方式有多种,其中湿法蚀刻是应 用 最 广、
最简便的方法。光刻胶及蚀刻技术是实现微电子微细加工技术的关键。
电子工业需要很多配套的电子化学品。这些材料和其他行业的电子配套材料的开发和发
展,促进了具有特殊性能元器件的产生和发展,进而推动了电子工业的前进。如随着冶金电
子材料硅纯度的提高及电子化工材料光刻胶、电子特种气体、超净高纯试剂和封装材料等的
发展,相继出现了集成电路、大规模集成电路和超大规模集成电路;电子器件一代代更新,
高可靠、小型化、多功能等方面进展,使计算机从需要占几个房间的机器到现在放在桌上的
2 新型电子化学品生产技术与配方
微型计算机,电视机由几个人抬到现在可放在手掌上的微型电视机等。
电子工业是近30多年来发展速度最快的工业,由于电子工业产品繁多,要求多种化工
材料配套。因此,国外电子化工材料发展非常迅速,例如1982~1987年期间,世界电子化
工材料产值翻了一番,从35亿美元增加到68 亿美元,1988~2008 年期间,世界电子化工
材料产值翻了两番,从68亿美元增加到150亿美元。
随着我国电子工 业 的 发 展, 我 国 电 子 化 工 材 料 也 有 了 发 展, 形 成 了 若 干 门 类, 如 半
导体、集成电路、印刷线 路 板、 计 算 机 和 彩 色 电 视 机 等 行 业 配 套 的 专 用 和 有 特 殊 要 求 的
化工材料,包括光刻胶、电子封装材料、印 刷 线 路 板 工 艺 用 化 工 材 料、 液 晶、 导 体 浆 料、
磨抛光材料、发光材料、电视机显像管 玻 壳 用 无 机 化 工 产 品 以 及 超 净 高 纯 试 剂 和 电 子 特
种气体等。
  • 锗物理性质
    锗是银灰色晶体,熔点9374℃,沸点2830℃,密度535g/cm3(20℃),莫氏硬度60~65,室温下,晶态锗性脆,可塑性很小。锗具有半导体性质,在高纯锗中掺入三价元素(如铟、镓、硼)、得到p型锗半导体;掺入五价元素(如锑、砷、磷),得到n型锗半导体...
    08-31
  • 锗半导体特性
    锗在周期表中的位置,正好夹在金属和非金属之间。锗虽属于金属,但却具有许多类似于非金属的性质,在化学上称为“半金属”。就其导电能力而言,优于一般非金属,劣于一般金属,故在物理学上被称为“半导体”...
    08-31
  • 半导体材料的分类、运用及制备
    半导体材料(semiconductormaterial)是导电能力介于导体与绝缘体之间的物质。半导体图31金刚石或闪锌矿(ZnS)的结构材料是一类具有半导体性能,可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料,其电阻率在10-3~10-9Ω·cm范围内。自然界的物质、材...
    08-31
  • 乙醇提纯生产流程
    产品规格(主要指标)项目MOS级企标①5~10μm颗粒BVⅢ②级标准(相当SemiC7标准)05μm以上颗粒项目MOS级企标①5~10μm颗粒BVⅢ②级标准(相当SemiC7标准)05μm以上颗粒颗粒含量/%杂质最高含量/×10-9钠(Na)≤2700个/100mL>99.950≤20个/mL>99.5100镁(Mg)铅(Pb)铁(Fe)1010100215①北京化工厂企标。②北...
    08-31
  • 氢氧化铵生产流程
    产品规格(主要指标)项目MOS级企标①5~10μm颗粒BVⅢ级标准②(相当SemiC7标准)05μm以上颗粒项目MOS级企标①5~10μm颗粒BVⅢ级标准②(相当SemiC7标准)05μm以上颗粒颗粒含量/%杂质最高含量/×10-9钠(Na)≤2700个/100mL>25.01000≤25个/mL28.0~30.010钙(Ca)铝(Al)铁(Fe)200100100101010①北京化工厂企标。②北...
    08-31
  • 氢氧化铵 (集成电路用)
    英文名ammoniumhydroxide(forICuse)主要原料及其规格工业钢瓶液氨含量995%第二章超净高纯单质化学试剂49消耗定额(以生产每吨氢氧化铵计)工业液氨约122t制法以工业钢瓶液态氨为原料,在常温下挥发出氨气,控制其流速,经高锰酸钾、EDTA等气体洗...
    08-31
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