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    紫外负性光刻胶生产流程图
    2019-09-19 信息编号:1058732 收藏
产品规格
固体含量 根据实际要求
水分 ≤005%(质量)
黏度 根据实际要求
应用实验 合格
性质 棕黄色透明液体。感光材料;室温下保存。
108 新型电子化学品生产技术与配方
用途 半导体器件光刻及其他精细加工。
  • 紫外负性光刻胶
    原料及其规格聚异戊二烯橡胶Mw:30万~40万多分散系数≤251,4聚合>95%灰分≤002%(质量)第四章电子工业用光刻胶107二甲苯含量≥95%(体积)水分≤005%(体积)硫酸变暗合格水分≤02%2,6双(对叠氮苯亚苄基)环己酮(以下简称交联剂)含量≥98%(质量...
    09-19
  • 紫外正性光刻胶生产流程
    产品规格固体含量根据实际要求黏度根据实际要求光敏性最大紫外吸收340~400nm,感光波长至500nm水分<05%(质量)灰分<30×10-6金属杂质各项金属杂质均小于1×10-6应用实验合格性质该产品通常为琥珀色或紫红色透明液体,感光材料,遇热分...
    09-19
  • 负性电子束抗蚀剂
    化学名氯甲基化聚苯乙烯性能及用途(1)物化性能本品为淡黄色液体,是一种灵敏度、分辨率、耐干刻蚀性兼优的电子第四章电子工业用光刻胶105束、软X线、深紫外用负性辐射线抗蚀剂。(2)主要用途负性电子束抗蚀剂...
    09-19
  • 正性电子束抗蚀剂
    化学名甲基丙烯酸三氯乙酯甲基丙烯酸共聚物104新型电子化学品生产技术与配方性能及用途(1)物化性能本品为淡黄色黏性液体,是一种分辨率、耐干刻蚀性兼优的电子束、软X线正性辐射线抗蚀剂。(2)主要用途产品...
    09-19
  • 聚亚肉桂基丙二酸乙二醇酯
    商品名聚酯型负性光刻胶FZJ11、FZJ21,无显影气相光刻胶WQG01、WQG02,金属腐蚀胶MK1、MK2。结构式[OCOCC師師帩HCHCHCOOCH2CH2]n性能及用途(1)物化性能此胶为感光性高分子聚合物,对紫外光敏感。同时还具有热敏性,因此...
    09-19
  • 聚乙烯醇肉桂酸酯
    性能及用途(1)物化性能为负性光刻胶,浅黄清亮黏性液体。能与醇、醚和其他有机溶剂相溶,微溶于水,易燃,遇光会发生聚合反应,在紫外光照射下光照部分发生聚合,曝光显影后得图像分辨率好、质量稳定,对二氧化硅...
    09-19