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    氢氟酸 (集成电路用)
    2019-08-31 信息编号:1043466 收藏
英文名 hydrofluoricacid40%,50% (forICuse)
主要原料及其规格 工业氢氟酸 (优级品)含量≥40% (GB7744—87)
消耗定额 (以生产每吨氢氟酸计)
工业氢氟酸 约13t
制法 依原料氢氟酸质量情况,对其关键杂质硅、硼、砷、磷 及 有 机 物 进 行 化 学 预 处
理。然后在高效精馏塔内进行精馏 (塔为四氟乙烯材质),成品收集在储罐内,在超净工作
台内分装产品。
流程说明 (参见图26) 选用工 业 氢 氟 酸 (优 级 品) 为 原 料,在 预 处 理 槽 内 加 入 化 学
处理剂进行混合,放置沉降后,将处理后的氢氟酸,加入塔釜内 (银釜或四氟乙烯釜),开
始加热,并给精馏塔冷凝器通冷却水,成品收集在储罐内。然后在超净工作台内分装成品,
包装瓶应符合洁净度要求,如成品颗粒指标达不到质量标准,需经超净过滤 (过滤设备均为
四氟乙烯材质)。
图26 氢氟酸提纯生产流程图
产品规格 (主要指标)
项 目  MOS级企标①
5~10μm 颗粒 BVⅢ级②(相当
SemiC7标准)
05μm 以上颗粒 项 目  MOS级企标①
5~10μm 颗粒 BVⅢ级②(相当
SemiC7标准)
05μm 以上颗粒
颗粒 
含量/% 
杂质最高含量/×10-9
钠(Na) 
钙(Ca)  ≤2700个/100mL 
>40.0 
200 
100  ≤10个/10mL
48.8~49.2
10
10 铝(Al) 
铁(Fe) 
砷(As) 
银(Ag)  100 
100 
50 
20  10
10



① 北京化工厂企标。
② 北京化学试剂研究所标准。
性质 氢氟酸是氟化氢的水溶液,无色透明液体。在25℃时密度为1153g/mL (50%
HF),其蒸气具有刺激性并有毒、接触皮肤可引起严重烧伤且不易治愈,应先用大量水冲洗
后就医。对金属、玻璃、混凝土等具有强烈腐蚀性。
用途 在微电子工业中作为强酸性腐蚀剂,可以与硝酸、乙酸、双氧水、氨水配制使用。
217 过氧化氢 (集成电路用)
英文名 hydrogenperoxide (forICuse)
46 新型电子化学品生产技术与配方
主要原料及其规格 工业过氧化氢 (电解法制备)含量>275% (GB1616—79)。
消耗定额 (以生产每吨过氧化氢计)
工业过氧化氢 约16t
制法 采用电解法制备的工业过氧化氢为原料,在高效蒸馏塔内进行减压蒸馏,再串联
几个水冷接收器接收过氧化氢 (前边接收器内为高浓过氧化氢),用高浓、低浓过氧化氢配
制成所需浓度过氧化氢。在超净工作台内分装成品。
流程说明 (参见图27) 采 用 电 解 法 制 备 的 过 氧 化 氢 为 原 料,加 入 列 管 式 蒸 发 器 内,
调节蒸汽阀门控制蒸发速度,经减压蒸馏后,再串联几个水冷接收器收集过氧化氢,然后将
不同接收器内过氧化氢混配成所需的浓度。在超净工作台内分装成品,包装瓶应符合洁净度
要求,如成品颗粒指标达不到质量标准,需经超净过滤。
图27 过氧化氢提纯生产流程图
产品规格 (主要指标)
项 目  MOS级企标①
5~10μm 颗粒 BVⅢ级②(相当
SemiC7标准)
05μm 以上颗粒 项 目  MOS级企标①
5~10μm 颗粒 BVⅢ级②(相当
SemiC7标准)
05μm 以上颗粒
颗粒 
含量(%) 
杂质最高含量/×10-9
钠(Na)  ≤2700个/100mL 
>30 
500  ≤10个/mL
30.0~32.0
10 钙(Ca) 
铝(Al) 
铁(Fe)  200 
500 
100  10
10
10

① 北京化工厂企标。
② 北京化学试剂研究所标准。
性质 无色透明液体,30% H2O2 在25℃时密度为111g/mL,与水、乙醇和乙醚相混
溶。过氧化氢是极弱的酸,是强氧剂,在某些情况下,又是还原剂。高浓度过氧化氢能使有
机物燃烧,与二氧化锰作用会发生爆炸。在贮存时能分解成水和氧。溅到皮肤上引起灼烧和
发痒,使皮肤变白,但伤处经水洗后数小时,症状可消失。
用途 在微电子工业中作为清洗腐蚀剂,可与硫酸、硝酸、氢氟酸和氨水配制使用。
  • 生产工艺路线
    超净高纯单质化学试剂39以电解法制备的工业过氧化氢为原料,结合化学处理,在高效蒸馏塔内进行减压蒸馏,用串联几个水冷接收器接收过氧化氢(前边接收器内为高浓过氧化氢),将接收到的过氧化氢混配成所需浓度...
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